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電子廠砷廢水處理設(shè)備

發(fā)布時間:2025-06-02 09:10:02 人氣:14 來源:電子廠砷廢水處理設(shè)備
案例介紹

電子廠砷廢水處理需要根據(jù)砷的形態(tài)(如As(III)、As(V))、濃度、廢水pH值以及其他共存污染物(如重金屬、有機物等)選擇合適的處理工藝。以下是常見的砷廢水處理設(shè)備及技術(shù)方案:


1.化學(xué)沉淀法

適用場景:高濃度砷廢水(尤其As(V))

設(shè)備組成:

反應(yīng)池:投加石灰(Ca(OH)?)、鐵鹽(如FeCl?、FeSO?)或鋁鹽(如Al?(SO?)?),形成砷酸鈣、砷酸鐵等難溶沉淀。

絮凝池:加入PAM(聚丙烯酰胺)促進絮體形成。

沉淀池/澄清池:分離沉淀物(如斜板沉淀器)。

污泥脫水設(shè)備:壓濾機(板框/帶式)、離心機。

優(yōu)勢:成本低、技術(shù)成熟。

注意:As(III)需先氧化為As(V)(如投加次氯酸鈉、H?O?或臭氧)。


2.吸附法

適用場景:低濃度砷廢水深度處理


吸附劑:

活性氧化鋁:適合中性至酸性廢水。

鐵基吸附劑(如GFH、鐵改性活性炭):對As(III)/As(V)均有效。

稀土材料(如負載鋯的樹脂)。


設(shè)備:

吸附柱:固定床或流化床設(shè)計,需定期再生或更換吸附劑。

過濾系統(tǒng):配套精密過濾器(如多介質(zhì)過濾器)。

優(yōu)勢:去除率高(可達ppb級),適合小規(guī)模廢水。


3.離子交換法

適用場景:低濃度、低鹽度廢水


設(shè)備:

離子交換柱:填充選擇性樹脂(如砷酸鹽選擇性樹脂)。

再生系統(tǒng):用NaCl或NaOH溶液再生樹脂。

注意:高鹽度或競爭離子(如硫酸鹽)會降低效率。


4.膜分離技術(shù)

適用場景:高純度回用要求

反滲透(RO):可去除90%以上砷,但需預(yù)處理防膜污染。

納濾(NF):對As(V)去除效果較好。

設(shè)備:膜組件、高壓泵、清洗系統(tǒng)。

劣勢:成本高,濃縮液需進一步處理。


5.電凝聚/電化學(xué)法

適用場景:中小規(guī)模廢水

原理:電解鐵或鋁陽極生成Fe2?/Al3?,形成氫氧化物絮體吸附砷。

設(shè)備:電解槽、電源、沉淀分離單元。

優(yōu)勢:無需投加藥劑,自動化程度高。


6.生物處理法

適用場景:含有機物的復(fù)合砷廢水

生物氧化:利用嗜砷菌將As(III)氧化為As(V)。

生物吸附:通過微生物代謝產(chǎn)物固定砷。

設(shè)備:生物反應(yīng)器(如SBR)、污泥分離系統(tǒng)。


工藝組合示例

1.預(yù)處理:調(diào)節(jié)pH至中性,氧化As(III)→As(V)。

2.主處理:化學(xué)沉淀(鐵鹽)+絮凝沉淀。

3.深度處理:吸附/離子交換確保達標(如<10μg/L)。

4.污泥處理:壓濾后按危廢處置(砷污泥屬HW24)。


關(guān)鍵注意事項

砷形態(tài)分析:As(III)毒性高且難去除,需優(yōu)先氧化。

排放標準:國內(nèi)《污水綜合排放標準》(GB89781996)規(guī)定總砷限值0.5mg/L(一級標準)。

污泥管理:砷沉淀物屬危險廢物,需合規(guī)處置。


建議先進行廢水水質(zhì)檢測(砷濃度、pH、共存離子等),再定制工藝方案??陕?lián)系環(huán)保設(shè)備供應(yīng)商(如威立雅、桑德集團)提供針對性設(shè)計。

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